膜厚50~1000nm, 硬度HV2000, 電阻106-109ohm, 摩擦係數<0.1, 耐磨耗>60000次。 專為抗靜電需求所開發之鍍膜技術。除可應用於光學鏡片的抗靜電與抗刮外,也可應用於半導體手臂、載盤、量測元件之耐磨且抗靜電之需求。